中霖中科生产各种（0.25t/h-100t/h）水处理设备，除氟除砷设备，反渗透纯水设备，超滤设备，软化水设备，离子交换设备，电除盐设备，杀菌设备及各种灌装设备，可根据用户实际情况进行设计，保证同等产品、同等配置、价位最低，设备运行可靠，确保产品水符合国家用水标准。
半导体行业产品清洗用超纯水设备
在设备设计上，采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级ro＋edi＋精混床除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水出水水质电阻率达到18.2 mω.cm。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品，采用plc＋触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本，水利用率高，运行可靠，经济合理。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。我们公司专业生产ro＋edi＋精混床超纯水设备，有多年的生产经验，尤其在电控系统plc方面在水处理行业技术都是比较成熟，我们也有做过很多各行业的水处理设备，这方面我们有丰富的经验。
半导体行业产品清洗用超纯水设备参数
操作压力
| 水电阻率
| 出水量
| 外形尺寸
| 电压
| 水质
| 功率
| 电导率
| 脱盐率
|
1.0mpa （mpa） | 18 mω·cm | 500l/h | 160*100*16 0（cm） | 380 （v） | 0.55
| 380 （w） | 0.06
| 99.999 （%） |
半导体行业用超纯水水质标准：
我公司半导体行业用超纯水出水水质完全符合美国astm纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18mω.cm、15mω.cm、10mω.cm、2mω.cm、0.5mω.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
半导体行业用超纯水设备对水质的要求：
新兴的光电材料生产、加工、清洗；lcd液晶显示屏、pdp等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、fpc/pcb线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
半导体行业超纯水设备应用场合：
☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗
☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液
☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水
☆黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水
☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液
☆晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制
☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片
☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路
☆lcd液晶显示屏、pdp等离子显示屏
☆高品质显像管、萤光粉生产
☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗
☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料
☆实验室和中试车间
☆汽车、家电表面抛光处理
☆光电产品、其他高科技精微产品
半导体行业用超纯水制备工艺流程图：
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