中霖中科生产各种(0.25t/h-100t/h)水处理设备,除氟除砷设备,反渗透纯水设备,超滤设备,软化水设备,离子交换设备,电除盐设备,杀菌设备及各种灌装设备,可根据用户实际情况进行设计,保证同等产品、同等配置、价位最低,设备运行可靠,确保产品水符合国家用水标准。
lcd液晶显示器超纯水设备
微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等,严重影响少数载流子寿命和表面电导;碱金属如钠等,引起严重漏电;颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等,会导致各种缺陷。所以单晶硅/多晶硅/硅材料/太阳能电池硅片、半导体器件生产中必须用超纯水,目前制取超纯水工艺可分为反渗透 混床超纯水设备,二是反渗透 edi超纯水设备,这是两种制取超纯水设备常用的工艺。
超纯水主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制,硅片氧化的水汽源,部分设备的冷却水,配制电镀液等。水中的碱金属(k、na等)会使绝缘膜耐压不良,重金属(au、ag、cu等)会使pn结耐压降低,iii族元素(b、al、ga等)会使n型半导体特性恶化,v族素(p、as、sb等)会使p型半导体特性恶化,水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20%~50%)会使p型硅片上的局部区域变化为n型硅而导致器件性能变坏。水中的颗粒(包括细菌)如吸附在硅片表面,就会引起电路短路或特性变差。
lcd液晶显示器超纯水设备参数
操作压力
| 水电阻率
| 出水量
| 外形尺寸
| 电压
| 水质
| 功率
| 电导率
| 脱盐率
| 单机出力
|
标配 (mpa) | 根据用 户要求 | 标配
| 可根据用户空 间适当调整(cm) | 380 (v) | 根据用 户要求 | 标配 (w) | 根据用 户要求 | 99.5(%)
| 标配 (/h) |
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